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除臭產品
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名稱: 光催化除臭裝置
所屬類別: 光催化除臭裝置
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光催化除臭裝置工作原理
 
復合光催化泡沫金屬尖端納米復合技術,整合納米光觸媒材料與泡沫鎳的優良特性,在泡沫鎳基體上均勻負載一定量的納米TiO2而獲得的一種負載型光催化功能材料。泡沫鎳因其獨特的三維網狀結構,可做為一種優良的光催化劑載體,而負載在其表面的納米TiO2是迄今為止研究和應用最多的一種光催化劑,在降解廢水中有機污染物、去除有害無機氣體和空氣凈化方面具有廣闊的應用前景。TiO2其電子結構特點為一個滿的價帶和一個空的導帶,在大于其帶隙能(Eg=3.2ev,相當于波長387.5nm的光子能量)的光照條件下,電子就可從價帶激發到導帶形成自由電子,而在價帶形成一個帶正電的空穴,形成電子—空穴對:
TiO2 + hυ →(TiO2)h+ +(TiO2)e-
價帶空穴是良好的氧化劑,導帶電子是良好的還原劑??昭ㄒ话闩c表面吸附的H2O或OH-離子反應形成具有強氧化性的活性羥基(•OH):
h+ + H2O → •OH + H+
h+ + OH- → •OH
電子則與表面吸附的氧分子(O2)反應,生成超氧離子(•O2-)。超氧離子可與水進一步反應,生成過羥基(•OOH)和雙氧水(H2O2):
e- + O2 → •O2-
•O2- + H2O → •OOH + OH-
2•OOH → H2O2 + O2•OOH + H2O + e- → H2O2 + OH-
H2O2 + e- → •OH + OH-
TiO2光催化氧化是活性羥基(•OH)和其他活性氧化類物質(•O2-,•OOH ,H2O2)共同作用的結果。在TiO2表面生成的•OH基團反應活性很高,具有高于有機物中各類化學鍵能的反應能,加上•O2-,•OOH ,H2O2活性氧化類物質的協同作用,能迅速有效地分解有機物。
            
光催化除臭裝置特點
★設備占地面積小、維護保養便捷、運行費用低;
★設備運行阻力低,可通過儀表及時掌握設備運行狀態;
★治理效率高、能滿足不同條件氣體使用環境;
★設備內的耗材可以實現重復使用,設備外形可根據現場要求設計;
★三維網裝結構,比表面積大,通透性能好,有一定強度,易于加工安裝壓降小;
★ 設備可采用Q235、SUS304制作,具有使用壽命高。
 
光催化除臭裝置應用領域
1 、市政行業:適用于餐廚垃圾處理站、垃圾中轉站、城市垃圾處理廠、糞便處理廠、城市污水處理廠、污水收泵站、格柵間、污泥池、污泥處理間、等產生的H2S、硫醇、硫醚類、氨及胺類等惡臭體;
2 、工廠企業:適用于噴涂、橡膠廠、輪胎廠、造紙廠、食品廠、煙草、印刷、養殖場、化工及生產過程產生苯類、酯、醇、酮、醛、酚汽油等場合。
 
 
光催化除臭裝置參數

設備型號
規格尺寸(單位mm)
處理風量(m3/h)
進出尺寸(mm)
設備阻力(Pa)
裝機功率(W)
設備重量(Kg)
L(長)
W(寬)
H(高)
ZK-GC-500
1500
1200
1400
5000
400
300
90
500
ZK-GC-1000
1500
1500
1800
10000
600
350
120
800
ZK-GC-1500
1500
1600
2000
15000
600
400
180
950
ZK-GC-2000
1800
2000
2000
20000
850
450
240
1450
ZK-GC-3000
1800
2200
2500
30000
1000
450
360
1640
ZK-GC-4000
2000
2600
2800
40000
1200
500
420
1780
ZK-GC-5000
2000
3000
3000
50000
1350
500
540
1840
ZK-GC-6000
2500
3000
3800
60000
1500
500
600
2000
ZK-GC-8000
3000
3500
4000
80000
1600
600
660
2200
ZK-GC-10000
3000
4000
4500
100000
1800
600
720
2500

備注:不同工藝組合和氣體介質特性,設備尺寸較參數表會存在出入,此表僅供參考。
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